鍍膜靶材是用物理或化學的方法在靶材表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變靶材表面的反射和透射特性。而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學鍍膜，有不少用戶不知道這二者的區(qū)別，凱澤金屬通過多年的鈦靶、鉻靶、鎳靶、鋯靶等不同金屬材料的鍍膜，對于真空鍍膜和光學鍍膜的異同，結(jié)合相關(guān)資料，整理如下：

一、真空鍍膜概念

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。

2、真空鍍膜主要利用輝光放電將氬氣離子撞擊靶材表面，靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。

二、光學鍍膜概念

1、光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層（或多層）金屬（或介質(zhì)）薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。

2、光學零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。

三、真空鍍膜和光學鍍膜的區(qū)別

1、性質(zhì)不同

通過上面對真空鍍膜和光學鍍膜的概念介紹，我們發(fā)現(xiàn)二者在性質(zhì)方面有所不同。真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件表面而形成薄膜的一種方法。而光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層金屬或介質(zhì)薄膜的工藝過程。

2、原理區(qū)別

（1）真空鍍膜是真空應用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體上凝固并沉積的方法。

（2）光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。

3、方法材料不同

（1）真空鍍膜的方法

真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。

陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。

化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。

離子鍍：實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點。

（2）光學鍍膜的材料

氟化鎂：無色四方晶系粉末，純度高，用其制光學鍍膜可提高透過率，不出崩點。

二氧化硅：無色透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩(wěn)定性好。純度高，用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜，蒸發(fā)狀態(tài)好，不出現(xiàn)崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

氧化鋯：白色重質(zhì)結(jié)晶態(tài)，具有高的折射率和耐高溫性能，化學性質(zhì)穩(wěn)定，純度高，用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜，不出崩點。

4、膜厚不同

真空鍍膜一般金屬材料電鍍出來的膜厚度大概是3-5微米。光學鍍膜的膜厚測試可以在鍍膜機的中間頂上裝置膜厚測試儀即可。早期使用的是光控測試，現(xiàn)在一般用晶振片，使用的是晶振片震動的頻率來測試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。

以上內(nèi)容就是真空鍍膜和光學鍍膜的異同的介紹，希望能幫到大家。真空鍍膜的過程很復雜，只是因為都需要高真空度而得名，光學鍍膜的鍍膜材料都是稀有金屬，這些材料隨著科技的發(fā)展其需求可能會增長。寶雞市凱澤金屬材料有限公司是一家研發(fā)生產(chǎn)鈦靶、鉻靶、鋯靶、鎳靶、鈦鋁靶、鈦絲、鈦加工件、鈦鍛件等金屬材料為主的高新技術(shù)企業(yè)，十余年專注于濺射靶材、鍍膜靶材、平面多弧靶材研發(fā)、生產(chǎn)，靶材組織結(jié)構(gòu)均勻、濺射成膜性能優(yōu)異，如果您對靶材有疑問或需要，歡迎聯(lián)系凱澤金屬。

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