產品名稱：高純鋁靶材

高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加工后的產品，具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料，安裝在真空鍍膜機上，濺射成膜。

1、用途

適用于直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、集成電路、顯示器等，相對其它靶材，鋁靶材的價格較低，所以鋁靶材是在能滿足膜層的功能前提下的理想靶材料。

2、分類

鋁靶材有平面鋁靶材和旋轉鋁靶材之分平面鋁靶材是片狀的，有圓形、方形等。

旋轉鋁靶材是管狀的，利用效率高，但不易加工，要通過高純鋁擠壓、拉伸、校直熱處理，機加工等多種加工工序才能制得鋁旋轉靶材成品。

3、鋁靶材生產工藝流程