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異形鈦靶材

材質(zhì):TA1(Grade1)、TA2(Grade2)

執(zhí)行標準: GB/T 3620.1、GB/T 3621、SJ/T 11609-2016

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發(fā)布日期: 2022-09-10 16:08:17

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詳細描述 / Detailed description

1、定義與分類

異形鈦靶材指通過特殊加工工藝制成 非標準幾何形狀 的鈦濺射靶材,需根據(jù)客戶設(shè)備結(jié)構(gòu)或鍍膜需求進行定制化設(shè)計。其形態(tài)多樣,常見類型包括:

復雜曲面靶:如波浪形、螺旋形,適配曲面基材的均勻鍍膜。

微型靶:用于MEMS(微機電系統(tǒng))或微型傳感器鍍膜(尺寸可小至毫米級)。

組合結(jié)構(gòu)靶:多孔結(jié)構(gòu)、網(wǎng)格狀或分段式靶材,用于梯度鍍層或局部沉積。

異形管狀靶:彎管、錐形管等,適應特殊腔體濺射需求。

2、性能特點

定制化適配性:

形狀與鍍膜區(qū)域高度匹配,減少掩膜使用,提升材料利用率(最高可達90%)。

解決復雜基材(如齒輪、渦輪葉片)的 邊緣效應 和 陰影效應。

制造挑戰(zhàn):

加工精度要求高(公差±0.05 mm),需避免應力集中導致的裂紋。

微觀結(jié)構(gòu)均勻性控制難度大(晶粒尺寸需≤50 μm)。

成本特性:

單件成本高(開模/編程費用占比大),但批量生產(chǎn)可攤薄成本。

3、材質(zhì)與制造工藝

材質(zhì)選擇:

純鈦:TA1(99.5%)、TA2(99.2%)或高純鈦(4N5級以上),根據(jù)鍍膜性能需求選擇。

鈦合金:如Ti6Al4V,用于耐磨或高溫涂層。

核心工藝:

增材制造(3D打印):

粉末床熔融(SLM)技術(shù)直接成型復雜結(jié)構(gòu),材料利用率>95%。

需后處理(熱等靜壓HIP)消除內(nèi)部氣孔(氣孔率≤0.1%)。

精密鑄造:

失蠟鑄造+真空熔煉,適合大尺寸異形靶(如直徑>500 mm的曲面靶)。

數(shù)控加工:

五軸聯(lián)動銑床/電火花加工(EDM),精度達±0.02 mm。

焊接組合:

分段靶材通過真空電子束焊接(EBW)拼接,焊縫強度≥母材90%。

4、應用領(lǐng)域

行業(yè)典型應用靶材形態(tài)示例
半導體3D NAND存儲器的深孔鍍膜(Ti/TiN阻擋層)多節(jié)錐形管靶
航空航天渦輪葉片熱障涂層(YSZ+鈦粘結(jié)層)仿形曲面靶
醫(yī)療器械骨科植入物多孔表面的生物活性鍍層(羥基磷灰石+鈦)多孔網(wǎng)格靶
光學器件非球面透鏡的漸變折射率鍍層環(huán)形分段靶
新能源燃料電池雙極板流道內(nèi)的防腐蝕鍍層微型溝槽靶

5、與標準鈦靶材的對比

特性異形鈦靶材標準鈦靶材(平面/圓柱)
加工成本高(定制化設(shè)計+復雜工藝)低(標準化生產(chǎn))
材料利用率70-95%(形狀適配基材)30-70%(邊緣損耗顯著)
鍍膜均勻性高(減少掩膜與邊緣效應)中(需優(yōu)化磁場/旋轉(zhuǎn)濺射)
生產(chǎn)周期長(設(shè)計+試制需2-6個月)短(1-4周批量交付)
適用場景特殊結(jié)構(gòu)基材、精密器件常規(guī)平面/旋轉(zhuǎn)鍍膜

6、選購方法與注意事項

選購方法

需求明確化:

提供 基材3D模型 或 鍍膜區(qū)域示意圖,標注關(guān)鍵尺寸與膜厚要求。

明確工藝參數(shù):濺射功率(W/cm2)、工作氣壓(Pa)、靶-基距(mm)。

供應商能力評估:

技術(shù)能力:是否具備 3D打印+HIP后處理、 五軸精密加工 等關(guān)鍵技術(shù)。

案例驗證:要求提供同類異形靶的 鍍膜均勻性測試報告(如SEM膜厚分布圖)。

成本控制策略:

小批量試制:先制作 縮比模型(1:5或1:10)驗證可行性。

材料選擇:TA1/TA2級鈦可降本,4N級僅用于半導體等高要求場景。

注意事項

設(shè)計優(yōu)化:

避免銳角設(shè)計(最小圓角R≥1 mm),防止濺射時電荷集中導致電弧放電。

復雜內(nèi)腔靶需預留冷卻水路(如直徑Φ3 mm的銅管埋入結(jié)構(gòu))。

檢測與驗收:

三維形貌掃描:對比實際靶材與設(shè)計模型的偏差(允許±0.1 mm)。

濺射測試:在客戶設(shè)備上進行 試鍍膜,驗證膜厚均勻性(如±5%以內(nèi))。

維護與再生:

定期使用 激光測厚儀 監(jiān)測靶材消耗,局部修補可采用 冷噴涂技術(shù)。

報廢異形靶可破碎重熔,但需注意雜質(zhì)累積(如O含量增量≤200 ppm)。

異形鈦靶材通過定制化設(shè)計解決了復雜結(jié)構(gòu)鍍膜的行業(yè)痛點,盡管初期成本與周期較高,但其在材料利用率、鍍膜精度上的優(yōu)勢顯著。選購時需緊密協(xié)同設(shè)計與工藝團隊,優(yōu)先選擇具備增材制造與精密加工能力的供應商,并通過小批量試制驗證可行性。在半導體3D集成、航空航天高溫涂層等前沿領(lǐng)域,異形靶材正逐步成為不可替代的核心材料。

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